国内首台自主研发商用电子束光刻机在杭州问世，精度达0.6纳米

近日，国内首台自主研发的商用电子束光刻机在杭州问世，其技术参数达到国际主流水平，标志着我国在量子芯片制造领域迈出了关键一步。

在位于杭州城西科创大走廊的浙江大学科技成果转化基地，一台外形酷似大型金属柜的设备正在进行测试，电子屏幕上不断更新着各项运行数据。这是由省内重点实验室主导研发的全新一代100kV电子束光刻机，名为“羲之”，正式进入市场。

研发团队负责人介绍，这台设备堪称“纳米神笔”，能够在头发丝般的微小尺度上雕刻出复杂结构，其工作原理是利用高能电子束在硅基材料上直接绘制电路，精度达到0.6纳米，线宽为8纳米，具备高度灵活的设计调整能力，无需使用掩膜版即可实现精确制造，非常适合芯片研发阶段的多次调试。

电子束光刻技术不同于传统光刻方式，它使用电子束作为“画笔”，在抗蚀剂上逐点绘制图案，通过电磁场控制电子束的方向，从而在基材表面留下所需结构。与EUV光刻相比，电子束光刻的精度更高，但因逐点扫描的特性，单片晶圆的加工时间长达数小时，效率低于EUV设备。

目前主流的EUV光刻机采用13.5纳米波长的极紫外光，通过掩膜投影实现整片晶圆一次曝光，效率显著。国际厂商生产的High NA EUV光刻机已实现2纳米的加工精度，主要用于大规模量产，例如CPU、内存等通用芯片的制造。

因此，电子束光刻更适合对精度要求极高、小批量的制造场景，如高端芯片原型开发、掩模版制造等。“羲之”的推出不仅填补了国内高端光刻设备领域的空白，也有望缓解国内科研机构长期以来在设备采购方面的限制问题。目前该设备已与多家企业及研究机构展开合作接洽，价格也低于国际平均水平。

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